加拿大平面設計專業留學條件揭曉_教你輕松進入心儀大學

加拿大平面設計專業留學條件揭曉 教你輕松進入心儀大學，很多同學對于這個問題有疑問和不解，那么下面就跟著中國教育在線的小編詳細了解一下吧。

加拿大平面設計專業留學條件:

1.阿爾伯塔藝術設計學院 / Alberta College of Art and Design

阿爾伯塔藝術設計學院(ACAD)對加拿大20世紀視覺文化具有極其重要的貢獻，它的很多畢業生作為藝術家 和設計者在加拿大乃至國際上贏得了極高的聲譽。學院資產雄厚，年預算達到$12000000,也是加拿大僅有的四所可以頒發學位的公立藝術設計學院之一，ACAD 擁有寬敞的教室并采用小班式教學, 實行一對一的互動教學，學校通過各種技術、工具以及智力刺激等方法鼓勵學生發現和開發他們的潛力和激情，為學生提供了一個有利于發展的開闊環境。

語言：雅思6.5分，托福83分;

作品集要求：1.Select 12 to 15 samples of your artwork.2.Include representational drawing examples, including one or two observational drawings of figure, landscape or still life.3.Include artwork created in a variety of mediums that explore different tools, techniques, and ideas.4.Demonstrate how you express ideas and concepts,preferably in work youve done on your own initiative outside of the classroom (for example, how do you respond creatively to current events, issues, or themes of personal interest?).

2.安大略藝術設計學院 / OCAD University

安大略藝術設計學院(OCAD University)是一所公立大學，學校坐落于加拿大安大略省多倫多市。學校毗鄰Grange Park，橫穿安大略藝術館(Art Gallery of Ontario)。安大略藝術設計學院是全加拿大排名第一，歷史最悠久，規模最大的藝術與設計教育機構，同時在北美40多所同類大學中高居前三名，長時間以來培養出了大量的藝術家和設計師，被譽為加拿大的想象大學。

語言：雅思6.5分，托福80分

作品集要求：1.Generate interest and excitement with the first piece;2.Be aware that current work best demonstrates your skill level;3.Be prepared to explain why a particular work was selected for inclusion in your portfolio, what it means to you and what you were trying to achieve;4.Be prepared to talk about any research and preparation you did for your final work;5.Research OCAD U ahead of time to show your level of interest and commitment to studying here.、

3.諾瓦藝術設計大學 / NSCAD University

諾瓦藝術與設計大學(NSCAD University) 位于加拿大東部新斯科舍省(Nova Scotia)首府哈利法克斯市(Halifax), 交通方便,是歐洲和美國進入加拿大的交匯點, 是加拿大的旅游勝地. 該校建于1887年, 迄今有120多年的建校歷史. 作為北美地區建校最早的藝術類大學, 該校在視覺藝術領域在北美地區一直位于領先和核心地位, 為世界各地培養了眾多的知名藝術家,包括肯尼迪家族的Garry Neill Kennedy等.由于該校在藝術領域所享有的崇高地位,每年吸引了眾多來自歐洲亞洲美洲和非洲的藝術家, 學者和留學生. 我國也有知名的藝術家曾在該校深造. 原華南建設學院藝術設計系主任戴舒豐先生畢業于該校藝術設計專業，現任清華大學藝術設計系主任。

語言：雅思6.5分，托福90分

作品集要求：1.20 digital images or time-based* pieces of work completed that illustrates ones material skills and conceptual development of ideas/theme.2.For Foundation applicants, images from a sketchbook/journal that was begun at least 3 months prior to the submission of the application must also be uploaded. The sketchbook/journal may include sketches, plans, drawings from observation, samples of creative writing, notes/observations made in response to other works (exhibitions, museums, novels, etc.), and explorations of mark-making with varied materials; and should demonstrate a sustained personal involvement in the exploration of ideas and images. The sketchbook should be documented by photograph or scan and uploaded as digital files to a maximum of 20 images.

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